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首頁新聞中心 希華晶振靠最先進(jìn)的技術(shù)確保其音叉晶振領(lǐng)域的領(lǐng)先地位

希華晶振靠最先進(jìn)的技術(shù)確保其音叉晶振領(lǐng)域的領(lǐng)先地位

來源:http://www.gdsurveystar.com 作者:壹兆電子 2024年03月03
希華晶振提供一系列 32.768 kHz 音叉晶體,採用最先進(jìn)光刻制程技術(shù),來實現(xiàn)卓越的穩(wěn)定性和信賴性。音叉型晶體具備低功耗特性 0.1 µW 及微型設(shè)計,最小尺寸至1.6 x 1.0mm,適合應(yīng)用在穿戴式裝置、物聯(lián)網(wǎng)裝置、無線通訊、消費性電子產(chǎn)品、筆記型電腦、智慧電錶、安全系統(tǒng)和個人醫(yī)療設(shè)備。32.768 kHz 音叉型晶體系列包括 XTL72 (3.2 x 1.5 mm)、微型 XTL74 (2.0 x 1.2 mm) 和超微型 XTL75 (1.6 x 1.0 mm),支援 ±20ppm 的標(biāo)準(zhǔn)頻率容差,并提供多種負(fù)載電容選項,包括 12.5pF、9pF、7pF 等,一般工作溫度范圍為 -40°C 至 85°C, AEC-Q200 標(biāo)準(zhǔn)的汽車和工業(yè)應(yīng)用可擴(kuò)展至 -40°C 至 125°C。
整合上下游,開發(fā)到生產(chǎn),自給自足.希華在光蝕刻制程技術(shù)上的創(chuàng)新與突破,結(jié)合臺灣唯一擁有上游長晶技術(shù),整合上下游資源的能力,使音叉型晶體從開發(fā)到生產(chǎn)自己自足,不需外求,更加提升希華音叉晶體的競爭優(yōu)勢。主要生產(chǎn)尺寸,從 3.2 x 1.5 mm到小型化 2.0 x 1.2 mm & 1.6 x 1.0 mm 皆可量產(chǎn)。
流程分工圖
 
音叉晶體生產(chǎn)流程,從南科的晶棒生產(chǎn)、 切割、 研磨成wafer原材,配合光蝕刻制程生產(chǎn)技術(shù), 制作成音叉型晶體 wafer,最后于南科專線生產(chǎn),產(chǎn)能自己自足不需外求,不僅確保高品質(zhì)水晶晶棒之供應(yīng),也能充分掌握產(chǎn)能及交貨期。
各種尺寸與設(shè)計能力
從大尺寸3.2 x 1.5晶振到小尺寸2.0 x 1.2晶振 & 1.6 x 1.0晶振皆可量產(chǎn),具備晶片設(shè)計能力,因應(yīng)各種不同領(lǐng)域應(yīng)用與客戶需求。
設(shè)立專線:于臺南有專屬音叉型晶體生產(chǎn)高度自動化工廠,設(shè)立專線以確保產(chǎn)品品質(zhì),達(dá)到最高要求。
音叉晶片能力
技術(shù)層次:高精度產(chǎn)品的微機(jī)電技術(shù),最重要的是產(chǎn)品尺寸精細(xì)度要求。利用微機(jī)電技術(shù)都能掌握至2um以內(nèi),比起傳統(tǒng)加工方式更為穩(wěn)定,良率也較高。
音叉產(chǎn)品是一種非常講求尺寸精度的產(chǎn)品,故在生產(chǎn)過程中如何控制產(chǎn)品尺寸非常重要的課題,目前市場上的產(chǎn)品還并不多,畢竟小型化技術(shù)是相當(dāng)困難。希華采用最先進(jìn)光蝕刻制程技術(shù),使小型化產(chǎn)品能有更穩(wěn)定的生產(chǎn)條件,不但縮短了生產(chǎn)時間,并大大提升了電性能力,在生產(chǎn)的良率上以及客戶的信賴性上,都有非常大的突破。
可行性與商業(yè)性
市面上的音叉型石英貼片晶振種類繁多,需求最大量的產(chǎn)品外觀為3.2 x 1.5 mm,但對應(yīng)市場上2.0 x 1.2 mm & 1.6 x 1.0 mm正崛起的情況之下,在產(chǎn)能提升狀態(tài)下首當(dāng)其沖的就是成本問題,希華有著領(lǐng)先的光蝕刻制程技術(shù),能快速對應(yīng)不同尺寸產(chǎn)品因應(yīng)各種需求。加上良率的提升,以最低成本作出最大產(chǎn)能,不僅僅能在市場上占有一席之地,還具有非常大的競爭力。

SIWARD原廠編碼 生產(chǎn)商品牌 型號 頻率 頻率偏差度 負(fù)載電荷 工作溫度
XTL721-Q23-048 Siward晶振 XTL72 32.768 kHz ±20ppm 6pF -40°C ~ 85°C
XTL721-S349-005 Siward晶振 XTL72 32.768 kHz ±20ppm 7pF -40°C ~ 85°C
XTL721-S999-301 Siward晶振 XTL72 32.768 kHz ±20ppm 9pF -40°C ~ 85°C
XTL721-S999-429 Siward晶振 XTL72 32.768 kHz ±20ppm 6pF -40°C ~ 85°C
XTL741-S999-319 Siward晶振 XTL74 32.768 kHz ±20ppm 9pF -40°C ~ 85°C
XTL741-U11-402 Siward晶振 XTL74 32.768 kHz ±20ppm 7pF -40°C ~ 85°C
XTL741-S999-298 Siward晶振 XTL74 32.768 kHz ±20ppm 12.5pF -40°C ~ 85°C
XTL741-S999-379 Siward晶振 XTL74 32.768 kHz ±20ppm 7pF -40°C ~ 85°C
XTL741-S999-327 Siward晶振 XTL74 32.768 kHz ±20ppm 4pF -40°C ~ 85°C
XTL721-S999-286 Siward晶振 XTL72 32.768 kHz ±20ppm 12.5pF -40°C ~ 85°C
XTL751-S999-544 Siward晶振 XTL75 32.768 kHz ±20ppm 12.5pF -40°C ~ 85°C
XTL751-S999-548 Siward晶振 XTL75 32.768 kHz ±20ppm 9pF -40°C ~ 85°C
XTL751-S999-420 Siward晶振 XTL75 32.768 kHz ±20ppm 7pF -40°C ~ 85°C
CGX70502-13.800-G108 Siward晶振 CGX-70502 13.8 MHz ±50ppm 16pF  -10°C ~ 60°C
CGX70502-14.050-G109 Siward晶振 CGX-70502 14.05 MHz ±50ppm 16pF  -10°C ~ 60°C
CGX70502-14.800-H134 Siward晶振 CGX-70502 14.8 MHz ±50ppm 16pF  -10°C ~ 60°C
CGX70502-15.425-H135 Siward晶振 CGX-70502 15.425 MHz ±50ppm 16pF  -10°C ~ 60°C
CGX70502-15.925-H136 Siward晶振 CGX-70502 15.925 MHz ±50ppm 16pF  -10°C ~ 60°C
CGX70502-16.300-H137 Siward晶振 CGX-70502 16.3 MHz ±50ppm 16pF  -10°C ~ 60°C
XTL581100-J96-011 Siward晶振 SX-2520 16 MHz ±10ppm 8pF  -20 ℃~70 ℃
XTL571200-K114-002 Siward晶振 SX-3225 12 MHz ±10ppm 10pF -40°C ~ 85°C
XTL571150-F98-063 Siward晶振 SX-3225 24 MHz ±15ppm 18pF  -20 ℃~70 ℃
XTL571100-H201-493 Siward晶振 SX-3225 25 MHz ±10ppm 12pF  -20 ℃~70 ℃
XTL541200-C282-030 Siward晶振 SX-5032 8 MHz ±20ppm 20pF -40°C ~ 85°C
XTL5A1100-M118-056  Siward晶振 SXT-2520 26 MHz ±10ppm 7pF  -30°C ~ 85°C
XTL5A1100-M118-132 Siward晶振 SXT-2520 26 MHz ±10ppm 7pF  -30°C ~ 105°C
XTL5A1100-S362-009  Siward晶振 SXT-2520 26 MHz ±10ppm 9pF  -30°C ~ 85°C
XTL55S16-S208-018TR4  Siward晶振 SX-4025 16 MHz ±10ppm 9pF  -20 ℃~75 ℃
XTL721-G78-1609  Siward晶振 CSF-3215 32.768 kHz ±20ppm 12.5pF -40°C ~ 85°C
XTL741-R53-039  Siward晶振 SF-2012 32 kHz ±20ppm 12.5pF -40°C ~ 85°C
XTL741-S999-321  Siward晶振 SF-2012 32.768 kHz ±20ppm 12.5pF -40°C ~ 85°C
XTL501100-F98-044  Siward晶振 SX-2016 24 MHz ±10ppm 8pF  -20 ℃~75 ℃
XTL501100-S413-007  Siward晶振 SX-2016 32 MHz ±10ppm 9pF  -20 ℃~75 ℃
XTL541200-C282-030  Siward晶振 SX-5032 8 MHz ±20ppm 20pF -40°C ~ 85°C
XTL571100-C249-064 Siward晶振 SX-3225 37.4 MHz ±10ppm 10pF  -10°C ~ 70°C
XTL571100-F98-020 Siward晶振 SX-3225 12 MHz ±10ppm 10pF  -20 ℃~70 ℃
XTL571100-H201-493  Siward晶振 SX-3225 25 MHz ±10ppm 12pF  -20 ℃~70 ℃
XTL571100-M118-048 Siward晶振 SX-3225 26 MHz ±10ppm 7.3pF  -20 ℃~75 ℃
XTL571100-N98-008  Siward晶振 SX-3225 25 MHz ±10ppm 20pF  -20 ℃~75 ℃
XTL571150-F98-063 Siward晶振 SX-3225 24 MHz ±15ppm 18pF  -20 ℃~75 ℃
XTL571150-G47-219  Siward晶振 SX-3225 25 MHz ±10ppm 18pF -40°C ~ 85°C
XTL571150-M118-070   Siward晶振 SX-3225 40 MHz ±7ppm 13pF -40°C ~ 85°C
XTL571200-H201-177  Siward晶振 SX-3225 32 MHz ±10ppm 9pF -40°C ~ 85°C
XTL571200-V42-001  Siward晶振 SX-3225 12 MHz ±20ppm 20pF  -10°C ~ 70°C
XTL571300-U11-279  Siward晶振 SX-3225 12 MHz ±30ppm 12pF -40°C ~ 85°C
XTL581100-J96-011  Siward晶振 SX-2520 16 MHz ±10ppm 8pF  -20 ℃~70 ℃
XTL581100-M171-008  Siward晶振 SX-2520 38.4 MHz ±10ppm 10pF  -30°C ~ 85°C
XTL581200-G47-319  Siward晶振 SX-2520 12 MHz ±10ppm 10pF -40°C ~ 85°C
XTL581150-G47-223  Siward晶振 SX-2520 40 MHz ±10ppm 12pF  -30°C ~ 85°C
XTL501300-A292-004   Siward晶振 SX-2016 16 MHz ±20ppm 9pF -40°C ~ 85°C

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